2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.1 強誘電体薄膜

[19p-133-1~19] 6.1 強誘電体薄膜

2018年9月19日(水) 13:45 〜 19:00 133 (133+134)

山田 智明(名大)、吉村 武(大阪府立大)、恵下 隆(和歌山大)、永沼 博(東北大)

18:30 〜 18:45

[19p-133-18] スパッタリング法によるHfO2基強誘電体の厚膜化とその電気特性評価

志村 礼司郎1、三村 和仙1、清水 荘雄1、舟窪 浩1 (1.東工大物院)

キーワード:強誘電体、酸化ハフニウム