[19p-133-1~19] 6.1 強誘電体薄膜

△ [19p-133-5] 水熱合成法で作製した(K,Na)NbO_３配向膜の圧電特性評価

〇(M2)舘山 明紀¹、伊東 良晴¹、中村 美子¹、清水 荘雄¹、折野 裕一郎¹、黒澤 実¹、内田 寛²、白石 貴久³、木口 賢紀³、今野 豊彦³、石河 睦生^1,4、熊田 伸弘⁵、舟窪 浩¹ (1.東工大、2.上智大、3.東北大、4.桐蔭横浜、5.山梨大)

キーワード：圧電体、水熱合成

(K,Na)NbO₃膜の圧電定数e_31,fについてはこれまで様々な作製法・組成・基板で報告されており、中でもスパッタ法で作製した膜においてカンチレバーを用いて大きな値が報告されている。種々の作製法の中で、水熱法は作製温度が300°C以下の低温で作製が可能なため、これまでの作製方法で指摘されていたKやNaの揮発による組成ズレの問題が少ない。我々は、焼結体の成形や通常の薄膜作製法では対応しにくい2- 100 µmの広い膜厚範囲の配向体の作製が可能なことを報告してきた。本研究では、水熱合成法で作製した(K,Na)NbO₃膜において、圧電定数e_31,fの評価を行ったので報告する。