2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[19p-146-1~22] 15.4 III-V族窒化物結晶

2018年9月19日(水) 13:15 〜 19:15 146 (レセプションホール)

ホームズ マーク(東大)、舘林 潤(阪大)、谷川 智之(東北大)

16:45 〜 17:00

[19p-146-14] アンモニアフリー有機金属気相成長法における高温AlN成長

沈 旭強1、児島 一聡1、清水 三聡1、奥村 元1 (1.産総研)

キーワード:窒化物

窒化物半導体は次世帯光デバイスや電子デバイス用材料として大きく期待されている。その中にAlNが紫外領域発光デバイス及びパワーデバイスの応用に非常に重要である。今回、我々はアンモニアフリー有機金属気相成長法(AF-MOVPE)を開発し、それを用い、サファイア基板上にAlN薄膜の高温成長に成功したので、その結果を報告する。