2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

16 非晶質・微結晶 » 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

[19p-231A-1~8] 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

2018年9月19日(水) 13:15 〜 15:30 231A (231-1)

後藤 民浩(群馬大)、吉田 憲充(岐阜大)

13:45 〜 14:00

[19p-231A-3] 不揮発性メモリ用遷移金属相変化材料の電子構造の解明

齊藤 雄太1、須藤 祐司2、フォンス ポール1、コロボフ アレクサンダー1、進藤 怜史3、畑山 祥吾2、雙 逸2、コジーナ ゼニア4、スケルトン ジョナサン5、小林 啓介6 (1.産総研ナノエレ、2.東北大工、3.東北大工(現:長岡技科大)、4.ヘルムホルツ研、5.バース大、6.JASRI)

キーワード:相変化材料、電子構造、カルコゲナイド

高耐熱性を有する遷移金属を含むカルコゲナイド相変化材料(Cu2GeTe3)の電子構造を解明する目的で、放射光用いた硬X線硬電子分光測定と第一原理計算を行った。その結果、アモルファス-結晶の相変化過程で遷移金属のd電子が化学結合や電子構造変化に重要な影響を与えていることを明らかにし、相変化材料探索の新たな指針を示すことができた