2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

16 非晶質・微結晶 » 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

[19p-231A-1~8] 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

2018年9月19日(水) 13:15 〜 15:30 231A (231-1)

後藤 民浩(群馬大)、吉田 憲充(岐阜大)

14:45 〜 15:00

[19p-231A-6] 気相法によるGeTeナノワイヤの結晶成長

〇(M2)中谷 和希1、今西 祐典1、山口 瑛太1、中岡 俊裕1 (1.上智理工)

キーワード:ナノワイヤ、ゲルマテルル

GeTeナノワイヤは相変化メモリなどのデバイス特性向上をもたらすものと期待できる。Ag-GeTeナノワイヤは抵抗変化メモリ、TAGS系熱電材料であるAg-GeTe系ナノワイヤへの利用が期待されている。我々はAgナノ粒子分散液を散布したものを触媒とし、ロンボへドラル型GeTe結晶からなるナノワイヤの成長を報告してきた。本研究では、EB蒸着やスパッタリング蒸着によるAgを触媒とするナノワイヤの成長を観測したのでこれを報告する。