[19p-231C-1~19] 12.1 Fabrications and Structure Controls

[19p-231C-15] Measurement of incident molecular temperature during vacuum deposition of organic thin films

〇Ryosuke Matsubara^1,2, Takeshi Azuma², Takahiro Abe¹, Yukihiro Ozaki¹, Atsushi Kubono^1,2 (1.Grad. Sch. of Intg. Sci. and Technol. Shizuoka Univ., 2.Faculty of Eng. Shizuoka Univ.)

Keywords:organic thin film, vacuum deposition, incident molecular temperature

有機薄膜の構造制御において基板温度および成長速度が重要なパラメータとなることはすでによく知られている。しかし、成長速度を制御する際、一般的には蒸発源の加熱によって入射分子頻度を制御するため、入射分子頻度のみならず入射分子の温度も同時に変化してしまう。我々は入射分子温度を定量的に評価する手法の開発に取り組んでおり、これまでに白金フィラメントと気体分子の熱交換を利用して分子温度を決定するという原理の実証を報告してきた。今回は実際の蒸着中における入射分子温度の測定を試み、基板に入射する分子の温度測定に成功したので報告する。