2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[19p-234A-1~10] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2018年9月19日(水) 13:30 〜 16:15 234A (234-1)

山本 治朗(日立)、谷口 淳(東理大)、川田 博昭(大阪府立大)

15:15 〜 15:30

[19p-234A-7] 水溶性ポリマーパターンを中間モールドとしたUVナノインプリント

川田 博昭1、清水 進吾1、安田 雅昭1、平井 義彦1 (1.大府大工)

キーワード:UV ナノインプリント、水溶性ポリマー

水溶性ポリマーパターンを中間モールドとしてUVナノインプリントを行なうプロセスを開発した。これにより、オリジナルのモールドには水溶性ポリマーが付着する場合があるが、それは水洗で簡単に除去できる。さらに、中間モールドは水に溶解するため、モールド離型を要さないUVナノインプリントができた。