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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[19p-234B-1~19] 6.4 薄膜新材料

2018年9月19日(水) 13:15 〜 18:30 234B (234-2)

土屋哲男(産総研)、一杉太郎(東工大)、村岡祐治(岡山大)

18:00 〜 18:15

△ [19p-234B-18] 複合成膜により成膜された低屈折率SiO₂光学薄膜(２)

〇都野義樹¹、増山賢二¹、室谷裕志¹、松本繁治² (1.東海大院工、2.(株)シンクロン)

キーワード：光学薄膜、低屈折率、SiO2