[19p-PA3-1~9] 3.15 シリコンフォトニクス

[19p-PA3-2] 直接貼付InP/Si基板におけるボイド占有率のアニール時間依存性 (2)

〇(M2)早坂 夏樹¹、韓 旭¹、Periyanayagam Gandhi Kallarasan¹、相川 政輝¹、内田 和希¹、杉山 滉一¹、松浦 正樹¹、矢田 拓夢¹、下村 和彦¹ (1.上智大理工)

キーワード：半導体レーザ、InP/Si、直接貼付