2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[19p-PA4-1~27] 15.4 III-V族窒化物結晶

2018年9月19日(水) 13:30 〜 15:30 PA (イベントホール)

13:30 〜 15:30

[19p-PA4-12] V/III比制御による狭ピッチパターン両極性GaN-MOVPE法の検討

松久 快生1、八木 裕隆1、井上 翼1、中野 貴之1 (1.静大院工)

キーワード:MOVPE、SHG、GaN

GaN結晶はGa極性面とN極性面を有していることから、各極性を周期的に配列させることで擬似位相整合結晶を作製可能であり、第二高調波発生デバイスとして期待されている。そこで我々は両極性GaN作製において、カーボンマスクを用いた両極性同時成長法を提案し、開発を行っている。本研究では4 µmピッチ両極性GaNをV/III比を変化させ、観察を行った。