[19p-PA5-1~14] 16.3 シリコン系太陽電池

[19p-PA5-10] テクスチャSi基板へのミストコート法によるZnO反射防止膜の形成に関する研究

菅野 貴史¹、佐々木 莉奈¹、渡辺 貴大¹、氷室 貴大¹、〇齋藤 洋司¹、河原 正美² (1.成蹊大院理工、2.高純度化学)

キーワード：シリコン太陽電池、反射防止膜、テクスチャ

ミストコート法を用いて、低コストで簡易的に反射防止膜の形成を試みる。今回は反射防止膜材料として、屈折率2程度を有し、熱膨張係数の値がSiと近くひび割れしにくいZnOをテクスチャSi基板上に成膜し、評価した。