[19p-PA5-1~14] 16.3 Bulk, thin-film and other silicon-based solar cells

[19p-PA5-11] Preparation of GaO_x thin films by mist CVD Method

Takashi Harada¹, Yoshiki Adachi¹, Yasushi Hotta¹, Haruhiko Yoshida¹, Kouji Maeda¹, 〇Koji Arafune¹ (1.University of Hyogo)

Keywords:Gallium oxide, passivation, Crystalline silicon solar cells

p型用パッシベーション材料の候補である酸化ガリウム薄膜をミストCVD法により作製し、その評価を行った。