2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

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[19p-PA5-1~14] 16.3 シリコン系太陽電池

2018年9月19日(水) 13:30 〜 15:30 PA (イベントホール)

13:30 〜 15:30

[19p-PA5-11] ミストCVD法による酸化ガリウム薄膜の作製

原田 貴志1、足立 良樹1、堀田 育志1、吉田 晴彦1、前田 光治1、〇新船 幸二1 (1.兵庫県立大学)

キーワード:酸化ガリウム、パッシベーション、結晶シリコン系太陽電池

p型用パッシベーション材料の候補である酸化ガリウム薄膜をミストCVD法により作製し、その評価を行った。