[19p-PB8-1~23] 21 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」（ポスター）

△ [19p-PB8-11] 岩塩型Ni_1-XFe_XO薄膜の室温エピタキシャル成長と特性評価

〇池谷 侑紀¹、土嶺 信男²、金子 智^3,1、Seo Okkyun⁴、坂田 修身^4,1、松田 晃史¹、吉本 護¹ (1.東工大物質理工、2.（株）豊島製作所、3.神奈川県産技総研、4.物材機構)

キーワード：エピタキシャル薄膜、室温合成、酸化ニッケル

本研究では、室温合成したNi_1-XFe_XOエピタキシャル薄膜(X = 0.3 , 0.4 , 0.5 , 0.6 , 0.7)に関して、Feの含有量が構造や物性に与える影響について検討した。当日は、室温作製したサンプルを大気中や真空中の熱処理によるFeの状態変化や、構造、物性に与える影響についても発表する。