[20a-PA3-1~3] 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション

[20a-PA3-3] ウェーハへの金属付着抑制剤の開発

〇星 重行¹、加藤 俊正¹、中馬 高明¹ (1.栗田工業)

キーワード：超純水、ポリスチレンスルホン酸、半導体