2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術

[20a-PA5-1~14] 13.3 絶縁膜技術

2018年9月20日(木) 09:30 〜 11:30 PA (イベントホール)

09:30 〜 11:30

[20a-PA5-5] 熱処理前後におけるプラズマALD積層絶縁膜の膜質および界面評価

棚橋 優策1、小川 慎吾1、井上 敬子1、杉本 智美1、清水 夕美子1、小坂 志乃1、関 洋文1 (1.東レリサーチセンター)

キーワード:分析評価、薄膜、界面