2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » 強誘電HfO2技術の最新動向 ~プロセス・物性からデバイス・回路応用まで~

[20p-141-1~13] 強誘電HfO2技術の最新動向 ~プロセス・物性からデバイス・回路応用まで~

2018年9月20日(木) 13:30 〜 18:30 141 (141+142)

山田 智明(名大)、藤井 章輔(東芝メモリ)