[20p-141-1~13] Trends of ferroelectric HfO₂ technologies

[20p-141-6] STEM-EELS analysis of polar orthorhombic phase of Hafnia-based thin films

〇Takanori Kiguchi¹, Takahisa Shiraishi¹, Takanori Mimura², Takao Shimizu², Hiroshi Funakubo², Toyohiko J. Konno¹ (1.Tohoku Univ., 2.Tokyo Tech.)

Keywords:hafnia, electron energy loss spectroscopy, scanning transmission electron microscopy

本講演では、このYHO薄膜中における結晶相やドメイン構造の評価にSTEM-EELS法による局所状態分析を取り入れることによって、イメージングだけでは捉えることのできない結晶構造異方性、つまりドメイン配向や共存する単斜晶相の判別や結合状態の相違点について検討した結果について報告する。