2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » 強誘電HfO2技術の最新動向 ~プロセス・物性からデバイス・回路応用まで~

[20p-141-1~13] 強誘電HfO2技術の最新動向 ~プロセス・物性からデバイス・回路応用まで~

2018年9月20日(木) 13:30 〜 18:30 141 (141+142)

山田 智明(名大)、藤井 章輔(東芝メモリ)

15:30 〜 15:45

[20p-141-6] STEM-EELS法による直方晶相ハフニア薄膜の結晶構造評価

木口 賢紀1、白石 貴久1、三村 和仙2、清水 荘雄2、舟窪 浩2、今野 豊彦1 (1.東北大金研、2.東工大)

キーワード:ハフニア、電子エネルギー損失分光、STEM

本講演では、このYHO薄膜中における結晶相やドメイン構造の評価にSTEM-EELS法による局所状態分析を取り入れることによって、イメージングだけでは捉えることのできない結晶構造異方性、つまりドメイン配向や共存する単斜晶相の判別や結合状態の相違点について検討した結果について報告する。