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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[20p-222-1~23] 6.2 カーボン系薄膜

2018年9月20日(木) 13:15 〜 19:30 222 (222)

青野祐美(防衛大)、針谷達(豊橋技科大)、寺地徳之(物材機構)、加藤有香子(産総研)

18:00 〜 18:15

[20p-222-18] 有機化合物-N₂-Ar混合気体の高周波プラズマCVDによる高窒素含有a-CN_x:H薄膜の作製と構造解析

〇飯澤仁規¹、斎藤秀俊¹、伊藤治彦¹ (1.長岡技科大工)

キーワード：窒化炭素、プラズマCVD、薄膜