2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[20p-222-1~23] 6.2 カーボン系薄膜

2018年9月20日(木) 13:15 〜 19:30 222 (222)

青野 祐美(防衛大)、針谷 達(豊橋技科大)、寺地 徳之(物材機構)、加藤 有香子(産総研)

14:15 〜 14:30

[20p-222-5] 電子線後方散乱回折法を用いたモザイクダイヤモンドの配向性評価

〇(M2)松下 晃生1、松岡 実李1、藤森 直治2、堂島 大地1、小出 和典1、金子 忠昭1、鹿田 真一1 (1.関学大理工、2.㈱EDP)

キーワード:ダイヤモンド

ダイヤモンドは高出力デバイスへの適応が期待されているが、その実用化には大口径単結晶ウェハが必要不可欠である。そこで考案されている手法が”モザイク技術”であり、本発表では、電子線後方散乱回折(Electron beam Backscatter Diffraction : EBSD)法を用いて、モザイク結晶の接合された結晶同士の配向性を検討したので報告する。