2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

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[20p-234A-1~18] 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

2018年9月20日(木) 13:30 〜 18:30 234A (234-1)

東脇 正高(情通機構)、山本 哲也(高知工科大)、木村 睦(龍谷大)

13:30 〜 13:45

[20p-234A-1] [講演奨励賞受賞記念講演] PLD法によるβ-(Ga1-yScy)2O3薄膜成長とバンドギャップ変調

若林 諒1、吉松 公平1、大友 明1,2 (1.東工大物質理工学院、2.元素戦略)

キーワード:酸化ガリウム、混晶、エピタキシャル成長

今回更なる物性評価に向けてよりSc組成を高めたβ-(Ga1-yScy)2O3薄膜の成長を行い,Egは5.45 eV (y = 0.32) まで増加することを明らかにした.またβ-(AlxGa1-x)2O3薄膜と比較して,固溶量に対してより大きなEg増加が見られた.