2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

21 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[20p-234A-1~18] 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

2018年9月20日(木) 13:30 〜 18:30 234A (234-1)

東脇 正高(情通機構)、山本 哲也(高知工科大)、木村 睦(龍谷大)

14:15 〜 14:30

[20p-234A-4] HVPE法によるサファイアおよびGaNテンプレート上ε-Ga2O3膜の成長

佐藤 万由子1、竹川 直1、小西 敬太1、村上 尚1、熊谷 義直1 (1.東京農工大院工)

キーワード:酸化ガリウム