[20p-234B-1~17] 22.1 Joint Session M "Phonon Engineering"

[20p-234B-14] Optimum substrate structure for controlling heat flow in planar Si nanowire thermoelectric generator

〇(M2)Keisuke Shima¹, Motohiro Tomita¹, Hui Zhang^1,2, Tianzhuo Zhan¹, Takashi Matsukawa³, Takeo Matsuki^1,3, Takanobu Watanabe¹ (1.Waseda Univ., 2.Gunma Univ., 3.AIST)

Keywords:thermoelectric, simulation

本研究では平面型シリコンナノワイヤ熱電デバイスにおいて、基板の一部を熱抵抗の小さい材料に置換することで熱流を制御し、ナノワイヤ温度差を増大させて発電性能を向上させられるかを、有限要素法を用いたデバイスシミュレーションによって検討した。計算より、ナノワイヤ低温側に位置する基板材料を置換するだけでなく、低温側の酸化膜厚を局所的に薄くすることで、ナノワイヤに熱流を誘導させ発電性能の向上が可能と考える。