The 79th JSAP Autumn Meeting, 2018

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Oral presentation

22 Joint Session M » 22.1 Joint Session M "Phonon Engineering"

[20p-234B-1~17] 22.1 Joint Session M "Phonon Engineering"

Thu. Sep 20, 2018 1:15 PM - 6:00 PM 234B (234-2)

Takanobu Watanabe(Waseda Univ.), Takahiro Yamamoto(Tokyo Univ. of Sci.), Toru Ujihara(Nagoya Univ.)

5:30 PM - 5:45 PM

[20p-234B-16] Impact of bonding layer material on the thermal resistance of metal/insulator stack structure

〇(M2)Ryo Yamato1, Tianzhuo Zhan1, Motohiro Tomita1, Mao Xu1, Hiroki Takezawa1, Kohei Mesaki1, Yibin Xu2, Takanobu Watanabe1 (1.Waseda Univ., 2.NIMS)

Keywords:Thermoelectric Generation, bonding layer, Parasitic thermal resistance

IoT推進に伴い微小環境熱から電気を取り出す熱電デバイスの需要が高まっている。発電の高出力化を達成するには、発電部以外の寄生熱抵抗の抑制が重要である。本研究では、熱伝導率が比較的高い絶縁体である窒化アルミニウムを介して金属を堆積させた積層構造を熱伝導層に用いることとし、熱抵抗を抑えるため最適な接合層材料の検討を行った。