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一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.2 材料・機器光学

[20p-436-1~7] 3.2 材料・機器光学

2018年9月20日(木) 13:45 〜 15:45 436 (436)

石飛秀和(阪大)、片山龍一(福岡工大)

14:00 〜 14:15

[20p-436-2] エバネッセント波を用いたアゾベンゼンポリマー光誘起表面レリーフホログラムの非破壊再生

〇大和田聖人¹、茨田大輔^1,2 (1.宇大院工、2.宇大CORE)

キーワード：アゾベンゼンポリマー