2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[21a-146-1~12] 15.4 III-V族窒化物結晶

2018年9月21日(金) 09:00 〜 12:15 146 (レセプションホール)

岩谷 素顕(名城大)、中野 貴之(静岡大)

10:45 〜 11:00

[21a-146-7] 歪緩和による深紫外LEDの発光効率改善

永松 謙太郎1、上杉 謙次郎1、三宅 秀人1、吉田 治正1 (1.三重大学)

キーワード:窒化物半導体、深紫外LED

AlNとAlGaN界面に加わるひずみ緩和を行い、AlGaN成長に伴い新たに発生する転位を低減したLEDを作製した。結果としてLEDのEL測定において発光強度が7.5倍増加した。