2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.5 デバイス/集積化技術

[21a-CE-1~10] 13.5 デバイス/集積化技術

2018年9月21日(金) 09:00 〜 11:30 CE (センチュリーホール)

太田 裕之(産総研)

10:15 〜 10:30

[21a-CE-6] 急峻なSSを持つPN-Body Tied SOI FETのパルス測定による過渡特性

〇(M1)遠藤 大貴1、井田 次郎1、森 貴之1、中野 駿一1、矢吹 亘1 (1.金沢工大工)

キーワード:SOI FET、過渡応答特性、新構造

近年では、室温にて60mV/decを下回る新構造デバイスの研究が行われており、我々は新構造PN-Body Tied SOI FETを提案し急峻なSSを報告している。新構造デバイスの急峻なSSは、MOSのチャネル層にあたるFloating Body部分にキャリアを注入しSOIのFloating Body効果を使うため、キャリア蓄積現象が関与する。よって、過渡応答特性に注目する必要がある。本稿ではPNBTの過渡応答特性についてパルス測定による実測を行い、結果を初めて報告する。