The 79th JSAP Autumn Meeting, 2018

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Oral presentation

13 Semiconductors » 13.4 Si wafer processing /Si based thin film /Interconnect technology/ MEMS/ Integration technology

[21p-233-1~14] 13.4 Si wafer processing /Si based thin film /Interconnect technology/ MEMS/ Integration technology

Fri. Sep 21, 2018 1:00 PM - 4:45 PM 233 (233)

Kuniyuki Kakushima(Tokyo Tech), Yan Wu(Nihon University)

2:45 PM - 3:00 PM

[21p-233-8] Die-Bonding Process of Half-Inch Wafer for Uniformizing of Laser-Vias

Fumito Imura1,2, Seiji Iwasaki3, Hiroshi Matsushita3, Michihiro Inoue1, Sommawan Khumpuang1,2, Shiro Hara1,2 (1.AIST, 2.MINIMAL, 3.ISHII TOOL&ENG.)

Keywords:Minimal Fab

我々はミニマルファブによるハーフインチサイズパッケージの開発を進めてきた。これまで、レーザビアの単体プロセス開発を行い、電気的導通を確認してきた。このレーザビア加工前のプロセス、すなわちダイボンディングプロセスでの接合の良否もレーザビアの形成状態、特にウェハ面内の均一性に影響を与える可能性がある。今回、レーザビア形状をパッケージ面内で均一にするためのダイボンディングプロセスを評価したので報告する。