2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[21p-233-1~14] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2018年9月21日(金) 13:00 〜 16:45 233 (233)

角嶋 邦之(東工大)、呉 研(日大)

14:45 〜 15:00

[21p-233-8] レーザビア形状均一化のためのハーフインチウェハボンディング

居村 史人1,2、岩崎 聖次3、松下 博史3、井上 道弘1、クンプアン ソマワン1,2、原 史朗1,2 (1.産総研、2.ミニマルファブ、3.石井工作研究所)

キーワード:ミニマルファブ

我々はミニマルファブによるハーフインチサイズパッケージの開発を進めてきた。これまで、レーザビアの単体プロセス開発を行い、電気的導通を確認してきた。このレーザビア加工前のプロセス、すなわちダイボンディングプロセスでの接合の良否もレーザビアの形成状態、特にウェハ面内の均一性に影響を与える可能性がある。今回、レーザビア形状をパッケージ面内で均一にするためのダイボンディングプロセスを評価したので報告する。