[21p-PB1-1~18] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[21p-PB1-16] 炭素材料創製用非平衡大気圧炭化水素プラズマの基板入射フラックスに関する数値解析

〇小嶋 正宏¹、大木 一真¹、小田 昭紀¹、太田 貴之²、上坂 裕之³ (1.千葉工大、2.名城大、3.岐阜大)

キーワード：プラズマCVD、非平衡プラズマ、大気圧プラズマ

非平衡大気圧炭化水素プラズマを利用した成膜方法の一つであるプラズマCVD法はダイヤモンドライクカーボンやカーボンナノチューブなどの各種炭素材料の創製に利用されている．本報告では，成膜において極めて重要な基板に入射するフラックスに着目し，Heで希釈したH₂/CH₄ガスの非平衡大気圧プラズマの一次元流体モデルを構築した上で，その解析を行ったので報告する．