[21p-PB1-1~18] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[21p-PB1-4] Optical properties of TiN_x thin film fabricated by RF reactive magnetron sputtering

〇Yusuke Kondo¹, Ayako Hioki¹, Yoshiharu Kakehi¹, Kazuo Satoh¹, Yong-Gu Shim² (1.ORIST, 2.Osaka Pref. Univ.)

Keywords:reactive magnetron sputtering, spectroscopic ellipsometry, titanium nitride

省エネルギー社会の実現へ向け、効率的な熱エネルギー利用の観点から、Transparent heat mirror（THM）の需要が高まっている。TiN_xは窒素の含有率により光学特性が大きく変化するため、THMへの利用には正確な波長分散の測定と製膜条件の最適化が重要となる。本研究では、産業用の製膜に広く利用されているマグネトロンスパッタ装置を用いてTiN_xを製膜し、N₂ガス流量比が光学定数に与える影響について調べた。