[21p-PB1-1~18] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[21p-PB1-4] 反応性RFマグネトロンスパッタリング法により製膜した
TiN_x薄膜の光学特性評価

〇近藤 裕佑¹、日置 亜也子¹、筧 芳治¹、佐藤 和郎¹、沈 用球² (1.大阪産業技術研究所、2.阪府大工)

キーワード：反応性マグネトロンスパッタリング、分光エリプソメトリー、窒化チタン

省エネルギー社会の実現へ向け、効率的な熱エネルギー利用の観点から、Transparent heat mirror（THM）の需要が高まっている。TiN_xは窒素の含有率により光学特性が大きく変化するため、THMへの利用には正確な波長分散の測定と製膜条件の最適化が重要となる。本研究では、産業用の製膜に広く利用されているマグネトロンスパッタ装置を用いてTiN_xを製膜し、N₂ガス流量比が光学定数に与える影響について調べた。