2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

8 プラズマエレクトロニクス » 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[21p-PB1-1~18] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

2018年9月21日(金) 13:30 〜 15:30 PB (白鳥ホール)

13:30 〜 15:30

[21p-PB1-5] ハイパワーインパルスマグネトロンスパッタリングにおける窒素の挙動

中村 将之1、太田 貴之1、竹田 圭吾1 (1.名城大理工)

キーワード:ハイパワーインパルスマグネトロンスパッタリング、窒素種

高エネルギーイオンと高イオン化率の生成が可能なハイパワーインパルスマグネトロンスパッタリングにおいて,発光分光計測を用いてプラズマ中の粒子の計測を行い,プラズマ中で生成される窒素種(原子,分子)のラジカルやイオンなどの素過程などについて検討を行った。スパッタガスであるArと反応ガスであるN2の比率 N2/(N2+Ar)を増加させると,N原子の発光強度が増加した。その一方でArとTi+の発光強度が減少し,プラズマ密度が減少したことが示唆された。