[21p-PB1-1~18] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[21p-PB1-5] ハイパワーインパルスマグネトロンスパッタリングにおける窒素の挙動

〇中村 将之¹、太田 貴之¹、竹田 圭吾¹ (1.名城大理工)

キーワード：ハイパワーインパルスマグネトロンスパッタリング、窒素種

高エネルギーイオンと高イオン化率の生成が可能なハイパワーインパルスマグネトロンスパッタリングにおいて，発光分光計測を用いてプラズマ中の粒子の計測を行い，プラズマ中で生成される窒素種（原子，分子）のラジカルやイオンなどの素過程などについて検討を行った。スパッタガスであるArと反応ガスであるN₂の比率 N₂/(N₂+Ar)を増加させると，N原子の発光強度が増加した。その一方でArとTi⁺の発光強度が減少し，プラズマ密度が減少したことが示唆された。