11:45 〜 12:00 △ [17a-F206-11] 成膜後熱処理の最適化による原子層堆積Al2O3膜バイアス安定性の向上 〇堀川 清貴1、平岩 篤2,4、大久保 智1、蔭浦 泰資1、川原田 洋1,2,3 (1.早大理工、2.早大ナノ・ライフ、3.早大材研、4.名大未来研)