15:15 〜 15:30 △ [19p-A404-7] パルスレーザー堆積法による低誘電率ナノポーラスSiO2膜の形成 〇(B)宮野 亮太1、菊地 俊文1,2、妹川 要1,2、中村 大輔1、池上 浩1,2 (1.九大シス情、2.九大ギガフォトン共同部門)