伊藤孝郁

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発表者・著者、共著者

2018年3月17日(土) 13:45 〜 18:00 C103 (52-103)

一般セッション(口頭講演)
| 6 薄膜・表面
| 6.4 薄膜新材料

[17p-C103-1~13] 6.4 薄膜新材料

15:15 〜 15:30

[17p-C103-4] 新規摩擦励起成膜法によるMoS₂/Geヘテロ構造の形成

〇伊藤孝郁¹、田邉匡生¹、小山裕¹ (1.東北大院工)