14:00 〜 14:15 [17p-C202-2] 六方晶窒化ホウ素上での高結晶性グラフェンナノリボン大量合成 〇(PC)小幡 誠司1、谷口 尚2、渡邊 賢司2、斉木 幸一朗1 (1.東大新領域、2.物材機構)