Zhihao Xu

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発表者・著者、共著者

2018年3月18日(日) 13:30 〜 15:30 P6 (ベルサール高田馬場)

一般セッション(ポスター講演)
| 13 半導体
| 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[18p-P6-1~18] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

13:30 〜 15:30

▲ [18p-P6-10] Surface passivation effect of RF-plasma processed a-Si:H layers
on the optical properties of BaSi₂ epitaxial films

〇(M2)Zhihao Xu¹、Kazuhiro Gotoh²、Tianguo Deng¹、Kaoru Toko¹、Noritaka Usami²、Takashi Suemasu¹ (1.Univ Tsukuba、2.Nagoya Univ)