09:30 〜 11:30 [19a-P6-69] 高周波スパッタ法によるMoS2薄膜の作製と硫化処理の効果 〇関 健太1、内藤 祐斗1、蓮池 紀幸1、鴨井 督2、木曽田 賢治3 (1.京工繊大、2.京都府中小企業技術センター、3.和歌山大)