シンポジウム(口頭講演)
[18p-A404-1~12] 高強度レーザーによる物質変換～材料プロセッシングの展開
2018年3月18日(日) 13:15 〜 18:00 A404 (54-404)
細川 陽一郎(奈良先端大)、坂倉 政明(サウサンプトン大)、欠端 雅之(産総研)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:15 〜 13:45
〇塚本 雅裕1 (1.阪大接合研)
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13:45 〜 14:00
〇佐藤 雄二1、 塚本 雅裕1、 菖蒲 敬久2、 山縣 秀人1、 東野 律子1、 西 貴哉3、 山下 順広4、 中野 人志3、 阿部 信行1 (1.阪大接合研、2.原研、3.近大理工、4.石川県工業試験場)
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14:00 〜 14:30
〇錦野 将元1、 石野 雅彦1、 T-H Dinh1、 長谷川 登1、 Faenov A2、 Pikuz T.2、 市丸 智3、 木下 博雄4、 坂上 和之5、 東口 武史6、 犬伏 雄一7、 今 亮7、 大和田 成起8、 羽多野 忠9、 鷲尾 方一5、 末元 徹10、 河内 哲哉1 (1.量研、2.大阪大、3.NTT-AT、4.兵県大、5.早稲田大、6.宇都宮大、7.JASRI、8.理研、9.東北大、10.豊田理研)
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14:30 〜 14:45
〇(PC)田中 のぞみ1、 和田 直1、 景山 恭行2、 西村 博明1 (1.阪大レーザー研、2.（株）豊田中央研究所)
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15:00 〜 15:30
〇溝口 計1、 齊藤 隆志1、 山崎 卓1 (1.ギガフォトン 株式会社)
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15:30 〜 16:00
〇橋田 昌樹1,2 (1.京大化研、2.京大院理)
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16:00 〜 16:15
〇足立 幸謙1、 保坂 悠介1、 岩本 悠暉1、 遠藤 雅守1 (1.東海大理)
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16:30 〜 17:00
〇尾崎 典雅1 (1.阪大工)
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17:00 〜 17:15
〇後藤 兼三1、 宮川 鈴衣奈1、 江龍 修1 (1.名工大)
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17:15 〜 17:30
〇長谷川 智士1、 早崎 芳夫1 (1.宇都宮大オプティクス)
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17:30 〜 17:45
〇場本 圭一1、 青柳 弓槻1、 谷 峻太郎1、 小林 洋平1 (1.東大物性研)
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17:45 〜 18:00
〇谷 峻太郎1、 小林 洋平1 (1.東大物性研)
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