[17a-C101-1~11] 13.4 Si wafer processing /Si based thin film /Interconnect technology/ MEMS/ Integration technology

[17a-C101-1] [Young Scientist Presentation Award Speech] Development of on-site silane generator using a microwave hydrogen plasma and its application

〇Norihisa Takei¹, Hiroaki Kakiuchi¹, Kiyoshi Yasutake¹, Hiromasa Ohmi¹ (1.Osaka Univ.)

Keywords:plasma, CVD, doping

我々は，マイクロ波により生成される高密度水素プラズマを用い，固体シリコンと原子状水素のダイレクト反応によりモノシラン（SiH₄）を生成し，シリコン膜を形成するリモート型大気圧プラズマ化学輸送法を提案している．本手法において，予め不純物がドープされたシリコン原料からオンサイト生成したSiH₄を用いることで，毒性のあるドーピングガスを用いずに伝導型・抵抗率が制御されたシリコン膜の形成が可能であることが分かった．