2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[17a-C101-1~11] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2018年3月17日(土) 09:30 〜 12:30 C101 (52-101)

野口 隆(琉球大)

12:00 〜 12:15

[17a-C101-10] 中空構造SOI層を用いた低温転写によるフレキシブル基板上での単結晶シリコンCMOS回路作製プロセスの構築

水上 隆達1、山下 知徳1、東 清一郎1 (1.広大院先端研)

キーワード:フレキシブルエレクトロニクス、単結晶シリコンCMOS回路、プラスチック基板