The 65h JSAP Spring Meeting, 2018

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Oral presentation

15 Crystal Engineering » 15.4 III-V-group nitride crystals

[17a-E202-1~10] 15.4 III-V-group nitride crystals

Sat. Mar 17, 2018 9:00 AM - 11:45 AM E202 (57-202)

Kazunobu Kojima(Tohoku Univ.), Mitsuru Funato(Kyoto Univ.)

10:00 AM - 10:15 AM

[17a-E202-5] Fabrication of GaN Monolithic Doubly-Resonant Microcavity SHG Device

Tomoaki Nambu1, Masahiro Uemukai1, Ryouken Fuji1, Tomoya Yamada1, Yasuhumi Fujiwara1, Ryuji Katayama1 (1.Grad. School of Eng., Osaka Univ.)

Keywords:GaN, SHG, resonator

窒化物半導体結晶は高い光損傷耐性と強い光学非線形性を有するが、常誘電性であるため高効率波長変換に必要な周期分極反転構造の形成が困難である。そこで我々は、厚膜GaN結晶を深掘りして作製する微小共振器型の波長変換デバイスを提案している。このデバイスはモノリシック構造であることから高安定で、共振器両側で反射位相調整することにより結晶方位の反転を不要とした。電場増強の効果により、全長十mm程度の微小共振器型第二高調波発生(SHG)デバイスで、およそ50%の変換効率を実現できることを理論的に示した。本発表では、このデバイスの作製プロセスについて報告する。