[17a-F206-1~13] 13.3 絶縁膜技術

[17a-F206-2] HF溶液中でのC-V測定によるSiO₂膜中深さ方向電荷分布評価

〇中澤 優斗¹、蓮沼 隆¹ (1.筑波大学)

キーワード：半導体