2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.5 レーザー装置・材料

[17p-B403-1~17] 3.5 レーザー装置・材料

2018年3月17日(土) 13:15 〜 18:00 B403 (53-403)

鈴木 将之(愛知医大)、佐藤 庸一(分子研)、宇野 和行(山梨大)

17:15 〜 17:30

[17p-B403-15] ゼロフォノンライン励起Yb:YAG TRAMレーザーの出力特性

谷口 誠治1、コスロービアン ハイク1、李 大治1、本越 伸二1、藤田 雅之1、井澤 靖和1、西方 伸吾2、森岡 朋也2、濱本 浩一2、池淵 博2、大谷 雄一2、金子 毅2、井上 直樹2、醍醐 浩之2 (1.レーザー総研、2.三菱重工業)

キーワード:固体レーザー、噴流冷却、ゼロフォノンライン

我々は常温駆動高出力レーザーの開発を目標に、除熱効果の高い水衝突噴流冷却とゼロフォノンライン励起を用いたYb:YAG TRAMレーザーの出力および温度特性の検討を行っている。今回、レーザー媒質の層厚およびドープ濃度の効果について検討した。その結果低ドープ濃度では発振閾値の低下および出力の増加が見られたが、媒質温度は低ドープ濃度の方が低く、媒質の発熱抑制が出力増加の一因となっているものと考えられる。