[17p-C103-1~13] 6.4 薄膜新材料

△ [17p-C103-12] 無極性AlN薄膜成長のためのスパッタ法を用いたMnSバッファー層作製条件の検討

〇(M1)立島 滉大^1,2、長田 貴弘²、石橋 啓次³、高橋 健一郎³、鈴木 摂³、小椋 厚志¹、知京 豊裕² (1.明治大学、2.物材研、3.（株）コメット)

キーワード：MnSバッファー層、AlN, GaN、スパッタ法