2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[17p-C103-1~13] 6.4 薄膜新材料

2018年3月17日(土) 13:45 〜 18:00 C103 (52-103)

中村 吉伸(東大)、鈴木 基史(京大)

15:30 〜 15:45

[17p-C103-5] 超臨界流体堆積法による酸化ハフニウム薄膜の低温合成と段差被覆成膜

川島 広明1、内田 寛1 (1.上智大)

キーワード:薄膜、超臨界流体、酸化ハフニウム