The 65h JSAP Spring Meeting, 2018

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Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.5 Plasma phenomena, emerging area of plasmas and their new applications

[17p-C201-1~19] 8.5 Plasma phenomena, emerging area of plasmas and their new applications

Sat. Mar 17, 2018 1:15 PM - 6:15 PM C201 (52-201)

Akinori Oda(Chiba Inst. of Tech.), Nozomi Takeuchi(Titech)

4:00 PM - 4:15 PM

[17p-C201-11] Mechanism of pH change in water by pulsed discharge exposure in Ar atmosphere

Kohshi Tsuda1, Shogo Wakisaka1, Kazuhiro Takahashi1, Kohki Satoh1 (1.Muroran Univ.)

Keywords:Ar, pulsed discharge plasma above water, Mechanism of pH change

放電処理水を用いた殺菌では,水中のpHが低い場合に殺菌効果が向上するため,殺菌効果の向上には,pHが減少する反応を選択的に起こすことが重要であり,水中のpH変化機序を把握することが必要である。本研究では,水上放電プラズマに伴う水中のpH変化機序の調査を目的としており,ここでは,水上パルス放電に伴う水中のpH変化をメチルレッドを用いた比色分析で可視化することにより,pH変化機序について検討した結果を報告する。