[17p-C201-1~19] 8.5 プラズマ現象・新応用・融合分野

[17p-C201-2] 低エネルギーケイ素分子イオンビームの生成と酸化ケイ素成膜への応用

〇吉村 智¹、杉本 敏司¹、竹内 孝江²、村井 健介³、木内 正人^1,3 (1.阪大工、2.奈良女大、3.産総研)

キーワード：酸化ケイ素、ヘキサメチルジシロキサン、オルトケイ酸テトラエチル

シリコンを含有する材料の成膜においては、通常はシランを主原料として用いることが多い。シランは自己発火性をもつ危険性の高いガスであるため、可燃性はあるが比較的安全に扱うことのできる、ヘキサメチルジシロキサン（HMDS）やオルトケイ酸テトラエチル（TEOS）を原料として用いた酸化ケイ素膜の成膜実験が行われている。本研究では、これらを原料として用いて、低エネルギーイオンビームを生成し、これを基板に照射することにより酸化ケイ素の成膜を試みた。HMDSから生成したSiO⁺イオンビーム、TEOSから生成したSiO₃H₃⁺イオンビームをそれぞれシリコン基板に照射し、成膜実験を行った。分析の結果、いずれの場合も酸化ケイ素膜が生成されていることを確認した。