[17p-C201-1~19] 8.5 Plasma phenomena, emerging area of plasmas and their new applications

△ [17p-C201-7] Development of plasma-enhanced inkjet printing process

〇Masanao Tsumaki¹, Kaishu Nitta², Kazuo Terashima^1,2, Tsuyohito Ito^1,2 (1.Graduate School of Frontier Science, The Univ. of Tokyo, 2.Faculty of Engineering, The Univ. of Tokyo)

Keywords:atmospheric-pressure non-equilibrium plasma, Inkjet printing

本研究では、プラズマ援用インクジェットプリンティングプロセスの開発を目的としており、次世代プリンテッドエレクトロニクスデバイスの開発を促進すべく、配線幅や焼結プロセス温度・時間の低減という課題の解決に着手した。ポリイミド上に銀配線作製を行った結果、基板温度上昇を120 ℃に抑制しつつ2.9×10^-5 Ωcmの配線が得られた。また従来の基板加熱方法に比べ、配線幅を1/3倍低減、焼結プロセス時間を1/3600倍短縮できることが確認された。